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卷对卷银纳米线薄膜连续涂布方式的电阻均匀性控制

33172020/04/10
基本信息
  • 需求标题 卷对卷银纳米线薄膜连续涂布方式的电阻均匀性控制
  • 需求主体 企业用户
  • 行业领域 材料科学与工程
  • 需求介绍 一、需求背景说明
    生产银纳米线透明导电薄膜,用于后续的触控花样制造。目前采用的成熟技术是非连续、单片式薄膜涂布,可以保证光电指标和薄膜均匀性,但向连续式、卷对卷制造时,制造1米宽幅,墨水连续供给、在线干燥方式等都对薄膜的均匀性造成影响,如何保证X-Y两个方向上的电阻均匀极为重要。
    二、需求说明
    在衔接连续注墨速度、涂布速度和干燥方式上,造成薄膜收缩等现象,X-Y两个方向上的电阻偏差超过10%。
    三、技术硬性指标要求
    (1)沿着涂布方向电阻偏差小于5%;
    (2)垂直涂布方向电阻偏差小于8%。
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